2043MK5-Fギ酸リフロー炉 装置長さ 678厘米 サブスクライブ 上部13 / 下部13 加熱部全長 430 厘米 冷却部 上部3 (下部オプション) 最高動作温度 標準: 350°C オプション: 400°C クリーンルームオプション クラス1000まで ソークゾーンでのギ酸安定性 +/- 1% ギ酸排出抑制システム リアルタイムギ酸 リアルタイムギ酸濃度およびO2 PPMモニター ギ酸と一酸化炭素の安全センサー SEMI S2/S8準拠
1936MK5-ギ酸リフロー炉 装置長さ 590cm サブスクライブ 上部10 / 下部10 加熱部全長 348 cm 冷却部 上部3 (下部オプション) 最高動作温度 標準: 350°C オプション: 400°C クリーンルームオプション クラス1000まで ソークゾーンでのギ酸安定性 +/- 1% 自動補充式ギ酸バブラー ギ酸排出抑制システム リアルタイムギ酸濃度およびO2 PPMモニター ギ酸と一酸化炭素の安全センサー SEMI S2/S8準拠
2043MK5-VR 真空リフロー炉 ボイドレス真空リフロー炉 2043MK5-VRは10個の対流加熱ゾーンと3個の遠赤外線ゾーンを備え、全加熱長430cmという究極の大量生産用真空リフロー炉です。大型真空チャンバーは最大500mmの基板に対応し、3ヶ所ある冷却ゾーンにより大型基板でも1秒あたり3℃以上の冷却速度が得られます。 装置長さ 680厘米 プロセスガスオプション 空気、窒素、ギ酸、フォーミングガス 加熱部 対流式:上部11/下部11 遠赤外線式:上部3 加熱部長さ(対流/全長) 327 cm / 430 cm 冷却部 上部3(下部オプション) 最高動作温度(対流式/遠赤外線式) 標準: 350°C / 400°C, オプション: 400°C / 480°C 最小真空度 標準: 10 Torr オプション: < 10 Torr 最大基板サイズ 500mm (L) x 450mm (W) x 29mm (H) クリーンルームオプション クラス1000まで
1912MK5-VR 真空リフロー炉 ボイドレス真空リフロー炉 1912MK5-VRには3ヶ所の遠赤外線加熱ゾーンと11ヶ所の対流ゾーンが備わっているため、プロファイルをより小さなセグメントに細分化する柔軟性と、鉛フリー製品に必要な洗練された「プロファイルスカルプティング」を可能にします。加熱部の長さは382cm(150インチ)で大量生産に最適、メンテナンスの必要性や所有コストも抑えられます。 装置長さ 590cm プロセスガスオプション 空気、窒素、ギ酸、フォーミングガス 加熱部 対流式:上部11/下部11 遠赤外線式:上部3 加熱部長さ(対流/全長) 290 cm / 382 cm 冷却部 上部3(下部オプション) 最高動作温度(対流式/遠赤外線式) 標準: 350°C / 400°C, オプション: 400°C / 480°C 最小真空度 標準: 10 Torr オプション: < 10 Torr 最大基板サイズ 350mm (L) x 350mm (W) x 29mm (H) クリーンルームオプション クラス1000まで
1911MK5-VR 真空リフロー炉 ボイドレス真空リフロー炉 1911MK5-VRは対流加熱ゾーン(10ヶ所)と遠赤外線(3ヶ所)からなる加熱部全長364cmの大量生産に適した装置です。最小のデルタTで高い再現性を一貫して実現し、メンテナンスと所有コストを最小限に抑えます。 装置長さ 590cm プロセスガスオプション 空気、窒素、ギ酸、フォーミングガス 加熱部 対流式:11上部/11下部 遠赤外線式:3上部 加熱部長さ(対流/全長) 262 cm / 364 cm 冷却部 上部3(下部オプション) 最高動作温度(対流式/遠赤外線式) 標準: 350°C / 400°C, オプション: 400°C / 480°C 最小真空度 標準: 10 Torr オプション: < 10 Torr 最大基板サイズ 500mm (L) x 450mm (W) x 29mm (H) クリーンルームオプション クラス1000まで
1808MK5-VR 真空リフロー炉 ボイドレス真空リフロー炉 1808MK5-VRは、7ヶ所の対流ゾーンと3つのIRゾーンで構成されており、最小限のフロアスペースながら273cm(107インチ)の加熱長さを実現します。迅速な応答時間と正確な温度制御により、部品密度や基板の積載量に関係なく、プロセスの均一性を確保し、空気や窒素のいずれにおいても同様のプロファイル性能を実現します。 装置長さ 465cm プロセスガスオプション 空気、窒素、ギ酸、フォーミングガス 加熱部 対流式:7トップ/7ボトム 遠赤外線式:3トップ 加熱部長さ(対流/全長) 174 cm / 273 cm 冷却部 上部2(下部オプション) 最高動作温度(対流式/遠赤外線式) 標準: 350°C / 400°C, オプション: 400°C / 480°C 最小真空度 標準: 10 Torr オプション: < 10 Torr 最大基板サイズ 500mm (L) x 450mm (W) x 29mm (H) クリーンルームオプション クラス1000まで
全自動加圧硬化炉 – PCO 1300 300mm EFEMを備えた全自動加圧キュアオーブン 装置サイズ(mm): 2,200[W] x 2,200[D] x 2,475[H] チャンバー使用面積(mm):560[W] x 680[D] x 480[H] 最大動作圧力: 20 bar (290 psi) 最高動作温度:260⁰C 窒素対応(オプション) クリーンルームクラス100(オプション) 真空性能最大5Torr(オプション) EFEMを備えた全自動ローディング(300mmウェハー) Your browser does not support the video tag.
インライン加圧硬化炉 – PCO 1280 PLPパネルの硬化に使用されるデュアルローダーとマガジン容量2冊に対応したインライン加圧硬化です。 装置サイズ(mm):2,000[W] x 4,850[D] x 2,400[H] 最大動作圧力: 10 bar (145 psi) 最高動作温度:220⁰C 窒素 / CDA クリーンルームクラス1000 真空性能最大10Torr セミオートマチック装填(PLPパネルマガジン) 2冊容量 デュアルPLPパネルマガジン装填
Semi Automatic Pressure Curing Oven – PCO 1250 Semi automatic loading batch Pressure Curing Oven for magazines. Oven Size (mm): 3,040[L] x 1,980[W] x 2,698[H] Chamber Usable Area (mm): 1,415[L] x 650[W] x 540[H] Max Operating Pressure: 10 Bar (145 psi) Max Operating Temperature: 200⁰ C Nitrogen Enabled (option) Up to Cleanroom Class 100 (option) […]
加圧硬化炉 – PCO 1150 PLPパネルの硬化用手動装填PCO 装置サイズ(mm):2,000[W] x 2,300[D] x 2,300[H] 最大動作圧力: 10 bar (145 psi) 最高動作温度:220⁰C 窒素 / CDA クリーンルームクラス1000 真空性能最大10Torr 手動装填(PLPパネルマガジン) 1冊容量 PLPパネルマガジン